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基于超聲波清洗技術(shù)的太陽能多晶硅片清洗裝置設(shè)計
發(fā)布時間:2024-12-25 15:30:05      點擊次數(shù):101

摘要:基于超聲波清洗技術(shù)的太陽能多晶硅片清洗裝置的設(shè)計基于超聲波清洗技術(shù)的核心原理,通過超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻機械振動能量,使清洗槽內(nèi)的液體產(chǎn)生劇烈的振動和空化效應(yīng)。本文設(shè)計了一種基于超聲波清洗技術(shù)的太陽能多晶硅片清洗裝置,旨在高效、環(huán)保地去除多晶硅片表面的污染物,提升硅片的清潔度和光電轉(zhuǎn)換效率。通過超聲波在液體中產(chǎn)生的空化效應(yīng),該裝置能夠有效清洗硅片表面的微小顆粒、有機物及金屬離子等雜質(zhì),同時避免對硅片表面造成損傷。實驗結(jié)果表明,該清洗裝置不僅操作簡便、清洗效果顯著,還具備節(jié)能環(huán)保、成本低廉等優(yōu)勢,為太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的清洗工藝提供了新的解決方案。

關(guān)鍵詞:超聲波清洗技術(shù);太陽能多晶硅片;清洗裝置;光電轉(zhuǎn)換效率

超聲波清洗技術(shù)由于具有特殊的物理清洗機制而被廣泛用于微細加工和半導(dǎo)體制造中。這種技術(shù)是利用超聲波對液體的高頻振蕩及空化效應(yīng)使得液體內(nèi)微小氣泡快速生成與斷裂,局部沖擊力大,有效地清除被清洗物上的臟物與雜質(zhì)。本課題從超聲波清洗技術(shù)優(yōu)點出發(fā),設(shè)計出一套太陽能多晶硅片的清洗設(shè)備,以達到硅片表面污染物有效和無損清洗的目的。

一、基于超聲波清洗技術(shù)的太陽能多晶硅片清洗裝置的特點

在太陽能光伏產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展過程中,多晶硅片清潔與否直接影響光伏組件性能與壽命,所以,使用高效環(huán)保的清洗技術(shù)是非常重要的。以超聲波清洗技術(shù)為核心的太陽能多晶硅片用清洗設(shè)備,以其特有的作用特性在光伏領(lǐng)域顯示出巨大的應(yīng)用潛力。

一是設(shè)備清洗效率高。超聲波對液體的空化效應(yīng)可以形成無數(shù)條細小氣泡,氣泡快速生成和斷裂時釋放大量能量,形成強沖擊波及微射流,對硅片表面污垢及雜質(zhì)進行了有效地撞擊與剝離。不管是細小的顆粒、黏附的有機物,還是很難清除的金屬離子及氧化層,都可以通過超聲波作用完全清除掉。該高效清洗能力不僅提升多晶硅片清潔度,而且極大地縮短清洗時間和生產(chǎn)效率。

二是設(shè)備無損清洗。超聲波清洗屬于物理清洗,其利用超聲波對液體機械振動能量進行清洗,不是傳統(tǒng)機械摩擦和化學腐蝕,使清洗時多晶硅片表面不被刮傷、破壞和變形。這對保護硅片完整性,提高硅片光電轉(zhuǎn)換效率有著十分重要的意義。

三是本設(shè)備具有節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點。超聲波清洗時只需少量清洗液及電能即可達到高效清洗,相對于傳統(tǒng)清洗方法,超聲波清洗降低水資源消耗及廢水排放。同時由于清洗液可循環(huán)利用,且經(jīng)過過濾系統(tǒng)除去雜質(zhì)及污染物,還減少清洗液消耗及廢棄物,該節(jié)能環(huán)保清洗方式滿足現(xiàn)代工業(yè)可持續(xù)發(fā)展需求。

二、基于超聲波清洗技術(shù)的太陽能多晶硅片清洗裝置設(shè)計的需求

在基于超聲波清洗技術(shù)進行太陽能多晶硅片清洗設(shè)備的設(shè)計過程中,必須要充分考慮到各方面的要求,才能保證該設(shè)備可以滿足光伏產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)的實際要求以及今后的發(fā)展趨勢。下面具體說明一下這種設(shè)備的設(shè)計需求:

一是設(shè)計需求要以提高高效清洗能力為重點。在太陽能多晶硅片的生產(chǎn)及使用過程中會被多種污染物所污染,例如微粒、有機物及無機金屬離子,這些污染物在影響硅片外觀質(zhì)量的同時,也會對光伏組件性能及壽命產(chǎn)生嚴重的影響。所以,在設(shè)計中要對超聲波清洗系統(tǒng)進行參數(shù)及結(jié)構(gòu)上的優(yōu)化,從而提高清洗效率及效果,如選擇合適的超聲波頻率及功率來保證空化效應(yīng)能完全作用在硅片表面設(shè)計清洗槽的合理形狀與大小,保證超聲波能量均勻地分布于槽中。

二是設(shè)計需求要注重無損清洗實現(xiàn)。多晶硅片是光伏組件中最核心的材料,它的表面質(zhì)量對于光電轉(zhuǎn)換效率有著至關(guān)重要的作用,所以,清洗時一定要避免給硅片表面帶來劃痕,損傷或者形變的不利影響。為達到無損清洗的目的,在設(shè)計中需選擇耐腐蝕、耐磨損材料制作清洗槽以及換能器等關(guān)鍵部件,還要對超聲波的波形、強度及其他參數(shù)進行優(yōu)化,以免給硅片表面造成過大沖擊力。

三是在設(shè)計需求中還應(yīng)兼顧節(jié)能環(huán)保。在全球關(guān)注環(huán)境保護與可持續(xù)發(fā)展背景下,光伏產(chǎn)業(yè)還需朝著綠色的方向邁進,所以在清洗裝置設(shè)計中,需重視節(jié)能減排與環(huán)保措施落實。如選擇低能耗超聲波發(fā)生器、換能器等;設(shè)計合理清洗液循環(huán)系統(tǒng),降低清洗液消耗與排放;使用環(huán)保型清洗液,減少環(huán)境污染等等。同時在設(shè)計需求上也應(yīng)該達到自動化、智能化,在工業(yè)自動化、智能化水平日益提升的今天,光伏產(chǎn)業(yè)同樣需要朝著智能化的方向邁進。所以在清洗裝置設(shè)計中,必須引進先進控制系統(tǒng)及傳感器技術(shù),才能對清洗過程進行自動化控制及智能化監(jiān)測。如清洗程序由PLC或者DCS之類控制系統(tǒng)自動執(zhí)行與調(diào)整;通過溫度傳感器、壓力傳感器等,對清洗過程關(guān)鍵參數(shù)及狀態(tài)信息進行實時監(jiān)控;通過人機界面或者遠程監(jiān)控系統(tǒng),對清洗過程進行遠程監(jiān)控與管理等等。

四是在設(shè)計需求中應(yīng)該考慮到該設(shè)備的可靠性與穩(wěn)定性。在光伏生產(chǎn)線中,太陽能多晶硅片清理裝置作為其中最主要的設(shè)備,它的可靠性與穩(wěn)定性直接影響著生產(chǎn)線能否正常工作以及產(chǎn)品的質(zhì)量。所以在進行設(shè)計時,需充分考慮各可能影響因素以及故障模式等,采取適當措施提高設(shè)備的可靠性與穩(wěn)定性。如選擇優(yōu)質(zhì)元器件及零部件等,進行充分試驗驗證及性能測試,建立完善維護保養(yǎng)及故障處理方案。

三、基于超聲波清洗技術(shù)的太陽能多晶硅片清洗裝置設(shè)計的方法

(一)明確清洗要求

在基于超聲波清洗技術(shù)太陽能多晶硅片的清洗設(shè)備設(shè)計中,最重要的任務(wù)就是要準確確定清洗需求,這就需要對多晶硅片面污染物的種類、污染程度及洗滌后需要滿足的潔凈度標準等進行深入了解。在多晶硅片的生產(chǎn)過程中,其表面可能會受到多種污染物的污染,這些污染物包括但不僅限于微小的塵埃粒子、有機油脂、無機鹽,以及在生產(chǎn)過程中生成的氧化層等。這些污染物不但對硅片透光性、反射率等性能產(chǎn)生影響,而且在隨后的過程中也有可能引入缺陷而使太陽能電池效率下降。所以清洗要求要清楚能除去這些污染物并且符合一定潔凈度。

更明確地說,清潔的標準可能涵蓋以下幾點:一是,對于微小的顆粒和有機物質(zhì),需要確保其去除率超過99%,以確保硅片上沒有肉眼可見的污點和粒子。二是,針對無機金屬離子及氧化層需要采用化學或者物理方法進行清除,使得硅片表面恢復(fù)到原來光澤度及平整度。三是,被洗硅片的表面粗糙度、反射率以及透光率都需要符合具體行業(yè)標準或者客戶要求。為驗證清洗效果可通過系列實驗測試方法進行,如利用光學顯微鏡對硅片表面微觀形貌進行觀察,并對微粒及有機物去除進行評價,通過原子力顯微鏡對硅片的表面粗糙度進行了測量,以確保清潔后的硅片表面是平整和光滑的,采用光譜分析技術(shù)對硅片表面反射率、透光率進行測試,驗證硅片光學性能合格與否。明確清洗要求之后,可依據(jù)這些要求選擇適當?shù)那逑匆骸⒊暡l率及功率,制定出相關(guān)清洗工藝流程。如對微粒、有機物等的洗滌,可選用高頻超聲波、滲透力強的清洗液等,在清潔無機金屬離子和氧化層時,為了提高清洗的效果,需要加入合適的化學試劑。

(二)遵循節(jié)能環(huán)保的原則

在太陽能多晶硅片清洗裝置的設(shè)計中,是否符合節(jié)能環(huán)保的原則,是不容忽視的一個主要方面,它既順應(yīng)了現(xiàn)階段社會可持續(xù)發(fā)展需求,又是企業(yè)提升經(jīng)濟效益、增強市場競爭力重要手段。

一是設(shè)備選型與設(shè)計,應(yīng)該優(yōu)先選擇低能耗高效率超聲波清洗系統(tǒng)。如選用帶智能控制功能超聲波發(fā)生器可根據(jù)清洗需求對超聲波頻率、功率等參數(shù)進行自動調(diào)整,以確保清洗效果并減少能耗。另外,可利用先進換能器材料與設(shè)計來提升超聲波轉(zhuǎn)換效率與穩(wěn)定性并降低能量損失。

二是選用清洗液時要首選環(huán)保型清洗液。這類清洗液一般毒性小,揮發(fā)性小,易降解,可降低對環(huán)境及人體造成的傷害。同時通過對清洗液配方及用量的優(yōu)化可進一步降低清洗成本,減少廢水排放。如可選擇用水基清洗液代替?zhèn)鹘y(tǒng)有機溶劑清洗液等,既可減少廢水處理難度及費用,又有利于資源循環(huán)利用。設(shè)備運行期間,應(yīng)采取了一系列降低能耗、減少碳排放的節(jié)能措施。如清洗槽內(nèi)設(shè)置保溫層,以減少熱量散失;本實用新型采用余熱回收技術(shù),實現(xiàn)了對清洗時產(chǎn)生熱量的回收利用;利用變頻調(diào)速技術(shù),按實際要求對清洗液循環(huán)泵、超聲波發(fā)生器運行功率進行調(diào)整等。這些舉措既能降低設(shè)備運行成本又有利于提升企業(yè)環(huán)保形象與品牌價值。

三是就廢水處理而言,需要利用先進的廢水處理技術(shù),降低污水中污染物的濃度,達到資源化利用。如可通過沉淀、過濾、吸附等物理方法除去污水中懸浮物及顆粒物,用氧化、還原及其他化學方法脫除廢水中有機物及無機金屬離子,同時廢水中有用物質(zhì)經(jīng)蒸發(fā)結(jié)晶等過程循環(huán)使用。這既降低了廢水排放造成的環(huán)境污染,又有利于達到資源節(jié)約與循環(huán)利用。

(三)清洗槽的設(shè)計

清洗槽是超聲波清洗裝置中最核心的部件,清洗槽設(shè)計是否合理直接影響著清洗效果及設(shè)備性能,清洗槽設(shè)計中需要考慮清洗要求、節(jié)能環(huán)保原則及設(shè)備可靠穩(wěn)定。

一是清洗槽形狀與大小要根據(jù)多晶硅片大小與多少而定。為保證清洗效果的均勻性,清洗槽要設(shè)計成能容納需要清洗多晶硅片的量,且留一定剩余量。通常情況下,矩形或者圓形這種規(guī)則形狀清洗槽比較多見,這是因為這些清洗槽既方便加工安裝。又能增加超聲波能量利用率。同時為充分發(fā)揮超聲波清洗作用,清洗槽中應(yīng)布置若干超聲波換能器,合理分配換能器位置,保證槽中超聲波能量分布均勻。據(jù)經(jīng)驗資料介紹,超聲波換能器的間距一般以20-30cm為宜。

二是清洗槽材料應(yīng)選擇耐腐蝕、耐磨損和耐高溫材料制作。由于清洗液中可能存在腐蝕性物質(zhì),并且在清洗時產(chǎn)生高溫高壓的環(huán)境,所以對清洗槽材料要求有較好的耐腐蝕性、耐磨損性以及耐高溫性能。不銹鋼作為常見的清洗槽材質(zhì)之一,其耐腐蝕性及加工性能較好,可滿足大部分清洗要求。但在一些特殊的場合,例如清洗液含有強腐蝕性物質(zhì)的場合,則可能要求選用較先進的材料,例如鈦合金或者陶瓷。

三是在設(shè)計清洗槽時還要考慮清洗液循環(huán)、過濾系統(tǒng)等。為保證清洗效果,降低清洗液消耗與排放量,在清洗槽上應(yīng)該安裝高效循環(huán)過濾系統(tǒng),除去清洗時的雜質(zhì)與污染物。循環(huán)過濾系統(tǒng)應(yīng)該由循環(huán)泵、過濾器和管道組成,根據(jù)實際要求選擇適當?shù)倪^濾精度與過濾速度,保證清洗液干凈穩(wěn)定。依據(jù)歷史經(jīng)驗,將循環(huán)泵的流量維持在清洗槽容量的大約2-3倍是比較適宜的;過濾器的過濾準確性應(yīng)依據(jù)清洗液中污染物的種類和濃度來設(shè)定。四是在對清洗槽進行設(shè)計時,還要考慮到它的密封性以及防漏性能。由于清洗液會有揮發(fā)性或者腐蝕性,所以要求清洗槽必須有很好的密封性以及防漏性能,避免清洗液泄漏或者對環(huán)境造成污染。為保證密封性能好,操作維修方便,清洗槽密封結(jié)構(gòu)設(shè)計要合理,選擇可靠密封材料制作。常用密封材料有O型圈和氟橡膠。同時清洗槽進、出口應(yīng)安裝適當閥門及接頭,方便清洗液進、出、控。

(四)超聲波發(fā)生器的設(shè)計

超聲波發(fā)生器作為超聲波清洗設(shè)備的核心,它的性能好壞直接決定著超聲波強度及穩(wěn)定性,從而對清洗效果產(chǎn)生影響。超聲波發(fā)生器的設(shè)計需要注意的核心要素有頻率、功率、波形和穩(wěn)定性等。

超聲波頻率不同,清洗效果也有差異。對于太陽能多晶硅片的清洗,高頻超聲波(如40kHz1MHz)通常更為合適,因為它們能夠產(chǎn)生更小的氣泡并更有效地滲透到硅片表面的微小縫隙中,從而更徹底地去除污染物。在具體頻率的選擇上,需綜合考慮硅片材質(zhì),污染物種類和清洗液性質(zhì)等因素,進行實驗驗證以確定最佳頻率。

設(shè)計功率時需要兼顧清洗效果和能耗,功率愈大,超聲波強度愈高,清洗效果愈佳,但能耗亦隨之升高,所以在設(shè)計中要按照清洗要求以及節(jié)能環(huán)保的原則制定出合理的功率范圍。通常情況下,對太陽能多晶硅片進行清洗時,超聲波發(fā)生器功率可以設(shè)置為數(shù)百瓦到數(shù)千瓦不等,其具體值需要根據(jù)清洗槽尺寸,硅片個數(shù)和清洗液類型等因素決定。在超聲波發(fā)生器的設(shè)計過程中,波形設(shè)計又是一個很重要的環(huán)節(jié)。常用波形包括正弦波和脈沖波,正弦波的波形比較穩(wěn)定,適用于較長時間的連續(xù)洗滌,脈沖波可在短期內(nèi)產(chǎn)生強沖擊力,適用于頑固污染物清除。在實踐中,可根據(jù)清洗需要選擇適當波形,也可組合運用各種波形來達到最好的清洗效果。穩(wěn)定性對超聲波發(fā)生器的設(shè)計至關(guān)重要,由于超聲波發(fā)生器在工作過程中會受到各種因素的影響(例如電壓的波動,溫度的變化),因此需要采取一系列措施來確保其穩(wěn)定性。比如可設(shè)計一套智能控制系統(tǒng),對超聲波發(fā)生器運行情況進行實時監(jiān)控與調(diào)節(jié),采用優(yōu)質(zhì)電子元件,設(shè)計穩(wěn)定電路,降低故障率,同時,對超聲波發(fā)生器進行定期的維護和保養(yǎng)也是確保其能夠長期穩(wěn)定運行的關(guān)鍵措施。

(五)設(shè)計循環(huán)過濾系統(tǒng)

循環(huán)過濾系統(tǒng)作為超聲波清洗裝置不可缺少的組成部分,負責清洗槽內(nèi)部清洗液的循環(huán)流動,對其雜質(zhì)以及污染物進行過濾,高效、穩(wěn)定的循環(huán)過濾系統(tǒng)對改善清洗效果,減少清洗液的消耗、保護環(huán)境等方面都有著十分重要的作用。循環(huán)過濾系統(tǒng)設(shè)計中,首先要確定循環(huán)泵流量及揚程。循環(huán)泵流量應(yīng)視清洗槽體積及清洗液流速而定,這樣才能保證清洗液在清洗槽中完全流動,覆蓋全部硅片表面。通常情況下,將循環(huán)泵的流量維持在清洗槽容量的2-3倍是比較適宜的。揚程的確定應(yīng)依據(jù)清洗槽的高度和管道的阻力來進行,以確保清洗液能夠順暢地傳輸?shù)角逑床鄣母鱾€部分。過濾器的選型與設(shè)計又是循環(huán)過濾系統(tǒng)的一個重要步驟,過濾器主要功能為清除清洗液內(nèi)雜質(zhì)及污染物,確保清洗液清潔穩(wěn)定。選用過濾器時,要綜合考慮它的過濾精度、過濾速、耐腐蝕性和易維護性。常用過濾器材質(zhì)包括不銹鋼、陶瓷;根據(jù)清洗液中污染物的種類和濃度,可以確定過濾的精度,通常需要控制在幾微米到幾十微米的范圍內(nèi)。另外在循環(huán)過濾系統(tǒng)設(shè)計中還要考慮清洗液加熱冷卻系統(tǒng),因清洗時產(chǎn)生熱而使清洗液的溫度上升,所以要設(shè)計適當?shù)募訜峒袄鋮s系統(tǒng),使清洗液處于適當?shù)臏囟葏^(qū)間。加熱系統(tǒng)既可使用電加熱,也可使用蒸汽加熱,冷卻系統(tǒng)可以選擇使用水冷或者風冷的方法。通過對清洗液溫度的準確控制,能夠進一步改善清洗效果,延長裝置使用壽命。

結(jié)束語

本文針對太陽能多晶硅片進行超聲波清洗設(shè)計,經(jīng)試驗證明清洗效率高,環(huán)保且成本低。本設(shè)備在解決傳統(tǒng)清洗方法中所存在問題的同時,也改善了光伏組件性能,延長了使用壽命。在今后的工作中,會對設(shè)備的結(jié)構(gòu)及性能參數(shù)進行進一步的優(yōu)化,使其能夠滿足不同類型及規(guī)格硅片清洗的需要。同時,還將探索該裝置在其他高精度清洗領(lǐng)域的應(yīng)用潛力,為推動相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻。

                                                        吳德利

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